層厚を制御した人工強磁性細線の作製に成功―人工強磁性細線を利用した大容量メモリや磁気センサ開発へ道筋―

　小野輝男 化学研究所教授、川名梨央 岐阜大学修士課程学生、大口奈都子 同修士課程学生（研究当時）、山田啓介 同准教授、吉田道之 同助教、杉浦隆 同教授、嶋睦宏 同教授、大島大輝 名古屋大学助教、加藤剛志 同教授、齋藤美紀子 早稲田大学招聘研究員、本間敬之 同教授の研究グループは、層厚を制御した多層構造をもつ人工強磁性細線の作製に、二浴電析（電気めっき）法と細孔ナノテンプレートを用いて成功しました。層厚は数100 nmから最小で約3.5 nmの多層構造を有する人工強磁性細線が作製できました。さらに本グループでは、1本の人工強磁性細線の磁気抵抗を測定し、人工強磁性細線の層厚が薄くなるほど、磁気抵抗比が増大することを確認しました。本研究の成果は、人工強磁性細線を利用する次世代磁気メモリや磁気センサの開発化へ道筋を開くものです。

　本研究成果は、2025年3月20日に、国際学術誌「Applied Physics Express」に掲載されました。

実験手法と作製した人工強磁性細線：（a）実験で用いた二浴電析法の概念図。（b）作製した複数本の人工強磁性細線の電子線回折による観察結果。細線の直径は約130 nm、Co₇₁Pt₂₉合金とCo₁₃Pt₈₇合金の1層の厚さの平均膜厚が11 nm。Co₇₁Pt₂₉合金とCo₁₃Pt₈₇合金の層が綺麗に積層されていることがわかる。