「次世代低炭素ナノデバイス創製ハブ拠点」開所式を開催しました。（2011年5月26日）
ハブ拠点 加工・評価室
本学では、「次世代低炭素ナノデバイス創製ハブ拠点」の開所式を開催しました。このハブ拠点は、文部科学省の「成長戦略への布石」である「環境・エネルギー技術への挑戦」の一環として設立された「低炭素社会構築に向けた研究基盤ネットワークの整備」事業で整備されたものです。開所式では、松本紘 総長の挨拶に続き、柿田恭良 文部科学省研究振興局基盤研究課長より祝辞をいただきました。また、松本総長ら3名によるテープカットが行われ、ハブ拠点の完成を祝いました。
引き続き、施設が公開されると、参加者はクラス100のクリーン度を有したイエロールームや最先端の微細加工装置の装置群などを熱心に見学していました。
本拠点は、東京大学および物質・材料研究機構とともにハブ拠点として、環境・エネルギー技術開発における共通基礎課題に集中的に取り組むことにより、大きな技術革新のシーズを創出することを目指しています。また、最先端機器を集中的に整備することにより、優れた研究成果・技術シーズを有する大学・研究機関（サテライ ト拠点）を支援していきます。
特に本学では、低炭素社会の実現に必要不可欠なエネルギーを「創る」「蓄える」「使う」「戻す」の4領域における、様々な革新的次世代材料・ナノマイクロデバイスの研究開発を加速するため、ウェハスケールで多種基盤材料・薄膜材料をナノマイクロ加工できる装置環境を提供し、低炭素化を早期に実現する学術研究・応用研究・開発研究と学から産業界への技術移転等に寄与します。
 挨拶をする松本総長 |
 祝辞を述べられる柿田研究振興局基盤研究課長 |
 左から柿田研究振興局基盤研究課長、松本総長、西阪昇 理事・副学長 |
|